TDLAS分析仪使用激光吸收光谱技术，可靠测量过程工艺气流中分析物（H2O、H2S、CO2、NH3和C2H2）的浓度。同样，荧光淬火（QF）分析仪测量气流中的氧气浓度，从痕氧浓度到百分比浓度。这些光学技术变革了在线气体分析的方式，为质量控制和过程控制提供了极大的便利，同时降低了运营成本，并最大限度地延长了生产过程的运行时间。查看以下产品，获取详细信息。
F
L
E
X
| FLEX产品选型 |
仪表技术性能 |
选型便捷程度 |
|
|
仪表技术性能
|
选型便捷程度
|
|
|
仪表技术性能
|
选型便捷程度
|
|
|
仪表技术性能
|
选型便捷程度
|
|
|
仪表技术性能
|
选型便捷程度
|
New
Measured variables
O2
Measuring range
O2: 0 ... 5 Vol.-% / 0 ... 100 Vol.-%
Ambient temperature range
–20 °C ... +60 °C
防爆认证
ATEX / IECEx /UKEx，防爆1区
PESO / KTL / CML，防爆1区
INMETRO，防爆1区
CSA Cl. I，Div. 1
CSA Cl. I，防爆1区
分析物和测量范围
H2S（硫化氢）：
0...10 ppmv
0...500 ppmv
其他量程（按需提供）
防爆认证
ATEX/IECEx/UKEx Zone 1
CSA Cl. I, Div. 1
CSA Cl. I, Zone 1
防爆认证
ATEX / IECEx - 防爆2区
CSA Cl. I，Div. 2
防爆认证
CSA Cl. I，Div. 2
CSA Cl. I，防爆2区
防爆认证
IECEx / ATEX / CNEx / KC / CCOE / CML防爆1区
防爆认证
CSA Cl. I，Div. 2
CSA Cl. I，防爆2区
Measured variables
NH3, HF, HCl, H2O
Device version
Cross-duct version
Measuring probe version
Ambient temperature range
–20 °C ... +50 °C
Depends on parameterization; temperature change max. ±10 °C/h
Measured variables
O2
Measuring range
O2:
0 vol. % ... 5 vol. %
0 vol. % ... 25 vol. %
0 vol. % ... 100 %
Ambient temperature range
-20 °C ... +60 °C
Can be expanded on the system side if necessary
荧光淬灭分析：气体应用中的O2 测量
对于天然气中的氧气浓度测量，我们的OXY5500分析仪优于其他同类产品。测量更快速、更精准、更稳定，不受 H2S和其他污染物的影响，几乎无需维护。
TDLAS：高精度可靠地分析气体浓度
我们的TDLAS分析仪产品组合可以在天然气管路、天然气加工厂和液化天然气厂、炼油厂和石化工艺过程中在线实时测量H2O、H2S、CO2、NH3和C2H2。我们掌握该领域的专业技术，获得多项专利。
©Endress+Hauser
可调谐二极管激光吸收光谱（TDLAS）
检测和测量过程工艺气流中待测分子的浓度，对于保证质量达标和防止污染至关重要。我们的TDLAS在过程气样品不接触分析仪关键部件的情况下测量。非接触式测量方式保护分析仪，实现快速响应和长期可靠测量，并且无需重新校准和频繁维护。
荧光淬灭（QF）
荧光淬灭（QF）技术是测量天然气中O2浓度的可靠方法。不同于痕量O2测量常用的电化学方法，QF几乎不受天然气中高浓度H2S、CO2和H2O的影响。
优点
- 无干扰：不受H2S或其他硫化物的影响
- 实时测量结果：快速连续测量，优秀的长期稳定性
- 操作便捷：无移动部件，操作简单
- 低运行成本：无需化学品耗材
- 精准计量：高精度低ppmv浓度测量
我们非常重视您的隐私权
我们将Cookie用于提高网页浏览体验、收集统计数据来优化网站功能，以及投放定制化广告或内容。
选择“全部接受”，即表示您同意我们使用Cookie。
更多细节请查阅我们的 Cookie政策 。
